公司沿革

由創新工業技術移轉股份有限公司發起設立，籌備委員會推選史欽泰先生為主任委員，聘請陳碧灣先生擔任籌備處主任。

奉科學工業園區核准，符合科學工業園區設置管理條例第三條所規定之科學工業准予在園區投資設立。

發起人會議通過公司章程，並選舉董事及監察人，董事當選人為張忠謀、史欽泰、章青駒、張寶熙、曾繁城、黃顯雄、蔣起麟、郭瑞雨、陳碧灣等九人，監察人為陳民瞻、吳國精、蔡美麗等三人。董事會推選史欽泰先生擔任董事長，並聘請陳碧灣先生擔任總經理。

正式取得公司執照。

獲新竹科學工業園區核准撥土地 0.96 公頃作為建廠使用。

本公司位於科學工業園區新廠正式奠基動土。

本公司購入第二台電子束曝光系統。

獲證期會核准為股票公開發行公司。

本公司於新竹科學園區新建廠房落成起用。

完成工研院電子所委製之 4 M DRAM 光罩，證明我國發展次微米之實力。

與日本 ICA 公司簽約購買 ETEC 公司所製造之雷射式曝光系統 CORE-2564，以配合積體電路工業發展 16 M DRAM 及 64 M DRAM 所需。

美國 ICS 公司來台頒發品質零缺點獎牌給本公司，以表彰本公司交貨迅速及品質無缺點事蹟。

與工研院電子所合作開發製造液晶顯示器(LCD)用光罩成品，並正式供應 LCD 業者使用。

新購雷射曝光設備 CORE-2564PSM 運抵工廠，本機型增加電腦快速處理能力，並可開發相位變換光罩，是當時最新型之曝光設備。

台灣證券交易所申報於 4 月 17 日正式掛牌上市。

本公司購入大型光罩曝光機到廠裝機，為我國第一家可提供液晶顯示器所需之大型光罩。

本公司購買日本電子光學公司所出產之電子束曝光設備到廠裝機，該機型號為 JBX-7000MV，是專為生產 64M 及 256M DRAM 所設計，本公司第一次引進可變型曝光系統，配合現有設備將可為本公司現有生產方式邁入新的紀元。

本公司與聯華電子公司簽訂 0.35 微米光罩量產合作協議書，聯華電子公司將於 86 年購買一台0.35 微米製程用光罩曝光機放置於本公司，由本公司負責管理生產及製造以供應該公司八吋晶圓廠所需之光罩。

本公司購買美國 ETEC 公司所出產之雷射曝光設備到廠裝機，該機型號為 ALTA-3000，為當時最新型精密之設備，為專為 0.35 微米製程量產及 0.25 微米製程開發所設計之機型，本機將為本公司供應積體電路八吋廠所用之光罩獲得充份支援及供應。

ISO 9000 品質認證通過。

本公司購買美國 ETEC 公司所出產之雷射曝光設備，該機型號為 ALTA-3500，是專為 0.18 微米製程量產及 0.15 製程開發所設計之機型。

合併新台科技股份有限公司基準日。

本公司二廠已全部建設完成並使用。

本公司購買日本 NUFLARE 公司所出產之電子束曝光設備，該機型號為 EBM3500S，是專為 0.13 微米製程量產及 0.11 製程開發所設計之機型。

本公司購買日本 JEOL 公司所出產之電子束曝光設備，該機型號為 JBX3030/3040，是專為 0.11 微米製程量產及 90 奈米製程開發所設計之機型。

ISO 14000 環境管理認證通過

合併美祿科技(股)公司基準日。

本公司購買日本 JEOL 公司所出產之電子束曝光設備，該機型號為 JBX3050MVS，是專為 65 奈米製程量產及 40奈米製程開發所設計之機型。

群豐科技(股)公司全面改選董事，本公司之子公司友縳投資(股)公司當選該公司過半董事會席次，取得對該公司之實質控制力，自該日起將該公司納入集團之子公司。

昱嘉科技(股)公司於 109 年 12 月 16 日召開股東臨時會全面改選董事，本公司之子公司友縳投資(股)公司當選該公司所有董事會席次，取得對該公司之實質控制力，自該日起納入本公司之子公司。

ISO 27001 資訊安全管理系統

本公司購買日本 JEOL 公司所出產之電子束曝光設備，該機型號為 JBX3200MVS，是專為 40 奈米製程量產及 28奈米製程開發所設計之機型。